発生ガス濃縮装置（マイクロチャンバー）Generated Gas Concentration System
- 装置名
- ジーエルサイエンス社製
発生ガス濃縮装置 MD-2580M-B - 装置仕様
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- ① オーブン
- 型式：MD-2580M-B
- 温度制御範囲：室温＋20℃～300℃
- 試料加熱雰囲気：ヘリウム
- ② マイクロチャンバー
- a. 石英チャンバー
- 内寸：φ200×30(H)mm，φ200×60(H)mm
- 使用温度：300℃まで
- b. パイレックスチャンバー
- 内寸：φ80×120(H)mm
- 使用温度：200℃まで
- a. 石英チャンバー
- ③ 捕集管
- TENAX管 等
- ① オーブン
発生ガス濃縮装置は、ガラス製マイクロチャンバー、オーブン、ガス捕集管により構成されます。数cmサイズの試料全体から発生するガス成分の定性・定量分析を行うことができ、各種工業製品から放散される成分の確認や、シリコンウエハ等の表面に付着している汚染成分の確認などに威力を発揮します。
試料をマイクロチャンバー内に設置した後、不活性ガス雰囲気中で試料を加熱し、発生したガスを捕集管に捕集します。その後、加熱脱着(ATD)-GC/MS測定により、捕集管に濃縮された発生ガス成分の定性・定量分析を行います。マイクロチャンバーは、試料のサイズおよび加熱条件にあわせて使い分けます。
図1 マイクロチャンバーでのサンプリングイメージ図