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分析装置紹介

集束イオンビーム加工観察装置Focused Ion Beam(FIB)

日立製 FB−2100

装置名
日立製 FB−2100
装置の仕様
  • イオン源:Ga液体金属イオン
  • 加速電圧:10〜40kV
  • 付属装置:SIM観察、デポジションガス源
    (W(CO)6)、マイクロサンプリング機構

図1 スパッタリングのモデル
図1 スパッタリングのモデル

FIBは細く絞ったイオンビームを試料に照射することにより、形態観察(SIM像)、微小領域のスパッタリング加工および膜形成を行なうことが可能な装置です。
SIM観察を行いながらの加工が可能なため、ナノオーダー精度で加工が出来るという利点があり、ピンポイントでの透過型電子顕微鏡(TEM)、走査型電子顕微鏡(SEM)観察用の試料断面を作製することができます。FIBは局所の断面作製に適しており、広範囲な断面作製には向きませんが、研磨法や切削法では困難な、有機、無機複合材料や金属、高分子材料に至るまで、幅広い材料の加工が可能です。

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